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第524章 专家研讨会2

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。

曹旭站起来,走到会议室前方的投影幕布旁边,拿起遥控器,按下了第一页。

屏幕上跳出一个简洁的封面,金陵市精工研究院可控核聚变高温超导材料项目技术汇报。

他转过身,目光从桌边每一张脸上扫过,然后微微欠身,语气平稳而清晰:

“各位老师好,我是曹旭。今天占用大家的时间,是想向各位汇报一下我们在高温超导材料方面的一些工作进展。”

他按下翻页键,屏幕上跳出一张REBCO超导带材的截面结构示意图。

“我们从第二代高温超导带材入手。REBCO,稀土钡铜氧,这是目前高场应用领域最有前景的超导材料体系。

但传统工艺下,带材的规模化制备一直存在几个瓶颈。缓冲层的织构稳定性、超导层的厚度均匀性、以及带材在长尺度上的临界电流一致性。”

他的语速不快不慢,每一个专业术语都咬得清晰准确,每一张PPT都简洁明了,数据、结构图、工艺路线,没有任何多余的装饰。

“我们在基底抛光、缓冲层沉积、超导层外延和保护层镀覆的全流程上,做了一些工艺优化。核心思路是……”

他翻到第三页,上面是一张工艺参数对比表。

会议室里安静了几秒。

然后坐在后排的一位四十多岁的男教授举了手。他姓孙,来自上海微系统所,研究方向是薄膜材料。

“曹总,你刚才提到缓冲层沉积的工艺窗口,温度区间比常规MOCVD低了将近一百度。这个温区下,外延生长的取向控制是怎么解决的?”

曹旭没有看资料,直接开口:“取向控制的关键不在温度本身,而在前驱体的分压比和衬底表面的预处理。

我们把基底抛光后的表面粗糙度控制在一个极低的水平,同时调整了缓冲层初始成核阶段的气流配比,让织构在更低的温度下依然能保持高取向度。”

孙教授推了推眼镜,低头在本子上记了一笔,没有再追问。

又一位教授举手,是来自中国科学技术大学的刘教授,等离子体物理方向。

他问的是带材在液氮温度下的临界电流密度与磁场角度的依赖关系。

曹旭按下翻页键,屏幕上出现一组极坐标图,曲线在零度到九十度之间的变化趋势标注得清清楚楚。

“自场下的临界电流密度,我们在77K液氮温度下测到了三百五十安培每厘米。

在垂直


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